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美國放寬刻蝕設備對華出口 65nm放行

發布時間：2010-10-9 18:46    發布者：嵌入式公社
關鍵詞： 出口
在SEMI及會員公司的共同努力下，經過9個月的等待，美國聯邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nm。

來源：SEMI
本文地址：http://m.4huy16.com/thread-31062-1-1.html     【打印本頁】

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yyfsyyy 發表于 2010-10-13 09:28:32
是個好消息
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