近日，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迎來(lái)振奮人心的消息，工信部宣布印發(fā)《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024 年版）》，在電子專用裝備目錄下，集成電路設(shè)備方面包括：氟化氬光刻機(jī)，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm，標(biāo)志著我國(guó)在高端半導(dǎo)體設(shè)備自主研發(fā)領(lǐng)域邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。
這款光刻機(jī)不僅擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，還在整機(jī)設(shè)備、核心技術(shù)及關(guān)鍵零部件上實(shí)現(xiàn)了重大創(chuàng)新，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控提供了重要支撐。 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，其技術(shù)水平直接決定了芯片的性能和品質(zhì)。長(zhǎng)期以來(lái)，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域一直受制于人，高端設(shè)備主要依賴進(jìn)口。然而，面對(duì)國(guó)際市場(chǎng)的復(fù)雜形勢(shì)和技術(shù)封鎖，我國(guó)企業(yè)沒(méi)有放棄自主研發(fā)的道路，通過(guò)不懈的努力和持續(xù)投入，終于在DUV光刻機(jī)領(lǐng)域取得了重大突破。 此次國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)的成功研發(fā)，不僅打破了國(guó)外技術(shù)壟斷，還為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了諸多積極影響。首先，它將有效提升我國(guó)芯片制造的自主創(chuàng)新能力，降低對(duì)進(jìn)口設(shè)備的依賴，增強(qiáng)我國(guó)在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的話語(yǔ)權(quán)。其次，國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)的推廣應(yīng)用將促進(jìn)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整體發(fā)展，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)升級(jí)和轉(zhuǎn)型升級(jí)。最后，這一成就也將為我國(guó)在高科技領(lǐng)域的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)提供有力支持，提升我國(guó)的國(guó)際地位和影響力。 |
