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日前，“2024集成電路產業鏈協同創新發展交流會暨中國集成電路創新聯盟大會”在北京舉行，會上頒發了“第七屆集成電路產業技術創新獎”（簡稱IC創新獎）。經過申報、受理、評選等環節，東方晶源自主研發的關鍵尺寸量測設備CD-SEM成功斬獲第七屆IC創新獎——成果產業化獎。 CD-SEM用于集成電路硅片圖形關鍵尺寸量測，是良率控制核心設備。該類設備被日本和美國公司壟斷，國內空白，屬于“卡脖子”產品。東方晶源自2021年先后推出12英寸CD-SEM和6&8英寸兼容CD-SEM設備，成功突破多項關鍵技術，如高速高精度硅片傳輸定位、圖像像差補償等，創新性地提出了復合高精度定位技術、電磁復合偏轉器及多級視場像差校正方法，從而大幅提升了設備性能與良率優化能力。 東方晶源CD-SEM產品已廣泛應用于多個制程領域，包括12英寸≥28nm邏輯制程、3D-NAND制程、DRAM制程，以及8英寸Si、MEMS制程和6英寸第三代半導體SiC、GaN、GaAs等化合物制程，成功獲得國內多家晶圓制造頭部企業認可，具有極高的性能表現和可靠性，市場認可度高。 “IC創新獎”重點鼓勵集成電路技術創新、成果產業化、產業鏈上下游合作，是集成電路產業最重要的技術獎項之一。其中“成果產業化獎項”皆在表彰集成電路創新成果產業化推進和市場拓展方面取得突出業績的單位和團隊，東方晶源CD-SEM獲此獎項實至名歸。值得一提的是，東方晶源電子束缺陷檢測設備EBI產品曾獲得第五屆IC創新獎——技術創新獎。 檢測、量測設備是集成電路制造過程中進行良率控制的關鍵設備，作為立足良率管理的企業，東方晶源自成立以來便聚焦電子束檢測、量測領域，經過十年的發展，突破多項關鍵核心技術、產業化進程突飛猛進、積極布局電子束缺陷復檢設備DR-SEM，為我國芯片安全做出了重要的貢獻。未來，東方晶源將繼續在電子束檢測、量測領域深耕，不斷進行技術突破與產品創新。同時，將充分發揮公司在計算光刻OPC等軟件方面的優勢，將軟硬件進行協同，為國內集成電路制造良率管理探索全新路徑。 |
