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來源：EETOP 據塔斯社報道，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）指出，該設備可確保生產 350納米的芯片。 什帕克告訴媒體：“我們組裝并制造了第一臺國產光刻機。作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分，目前正在對其進行測試。” 在全球范圍內，這種復雜程度的設備由幾家主要公司組裝，其中最大的是荷蘭的 ASML 公司以及佳能和尼康。 目前，臺積電和三星利用ASML的EUV光刻技術，已經能夠生產出精細至3納米甚至2納米的芯片。盡管350納米的芯片技術相較之下顯得落后，但它在汽車、能源和電信等諸多行業中仍有著應用價值。對于受到美西方嚴厲制裁的俄羅斯半導體產業而言，這一進展無疑是一則喜訊。這意味著，俄羅斯在自主發展半導體技術的道路上取得了突破，有望減少對外部技術的依賴，提升國內產業的自主性和競爭力。 |
