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賽靈思今天正式宣布了業(yè)界首款20nm器件開(kāi)始投片。這是繼28nm賽靈思連續(xù)取得多項(xiàng)業(yè)界領(lǐng)先創(chuàng)新之舉之后，再次引領(lǐng)業(yè)界技術(shù)潮流的體現(xiàn)。本視頻將向您介紹業(yè)界首款A(yù)SIC級(jí)的可編程架構(gòu)——UltraScale。通過(guò)該架構(gòu)可從20nm平面晶體管結(jié)構(gòu) （planar）工藝向16nm乃至FinFET晶體管技術(shù)擴(kuò)展，從單芯片（monolithic）到3D IC擴(kuò)展。它不僅能解決整體系統(tǒng)吞吐量擴(kuò)展限制的問(wèn)題和時(shí)延問(wèn)題，而且直接應(yīng)對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)芯片性能方面的最大瓶頸問(wèn)題——互連。 |
