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來源：中關(guān)村在線 近日臺積電透露6納米制程技術(shù)明年第一季度進(jìn)入試產(chǎn)，明年年底前量產(chǎn)。該公司表示，其極紫外光(EUV)微影技術(shù)之7納米強(qiáng)效版(N7+)制程已協(xié)助客戶產(chǎn)品大量進(jìn)入市場。導(dǎo)入EUV微影技術(shù)的N7+奠基于該公司成功的7納米制程之上，為6納米和更先進(jìn)制程奠定良好基礎(chǔ)。 臺積電稱，隨著EUV微影技術(shù)的進(jìn)一步應(yīng)用，N6的邏輯密度將比N7提高18%，而N6憑借與N7完全相容的設(shè)計法則，也可大幅縮短客戶產(chǎn)品上市的時間。 |
