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格羅方德牽手臺積電:引進650V與80V氮化鎵技術(shù)

發(fā)布時間:2025-11-11 11:12    發(fā)布者:eechina
關(guān)鍵詞: 格羅方德 , 臺積電 , 氮化鎵
晶圓代工領(lǐng)域迎來重磅技術(shù)合作——全球第四大晶圓代工廠格羅方德(GlobalFoundries)日前宣布與臺積電簽署一項技術(shù)授權(quán)協(xié)議,正式引進其650V高壓與80V中壓氮化鎵(GaN)技術(shù)。這一合作標志著臺積電在退出GaN代工業(yè)務前,通過技術(shù)授權(quán)模式完成戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型,而格羅方德則借此加速布局第三代半導體核心賽道,為美國本土功率電子產(chǎn)業(yè)鏈注入關(guān)鍵技術(shù)支撐。

根據(jù)協(xié)議,臺積電將向格羅方德開放其成熟的GaN-on-Si(硅基氮化鎵)技術(shù)專利組合,涵蓋650V高壓器件設(shè)計、80V中壓功率模塊及配套制造工藝。其中,650V技術(shù)主要面向數(shù)據(jù)中心電源、光伏逆變器等工業(yè)級場景,而80V技術(shù)則聚焦于電動汽車車載充電器、48V輕混系統(tǒng)等汽車電子領(lǐng)域。格羅方德計劃在其佛蒙特州伯靈頓工廠部署該技術(shù),該廠此前已通過美國CHIPS法案獲得超1.2億美元專項資金,用于GaN專用產(chǎn)線的設(shè)備改造。

此次授權(quán)的技術(shù)核心源于臺積電長達十余年的GaN研發(fā)積累。自2015年實現(xiàn)全球首次GaN-on-Si量產(chǎn)以來,臺積電已為納微半導體(Navitas)、宜普電源(EPC)等客戶提供超500萬片GaN晶圓。其650V器件采用增強型MISHEMT結(jié)構(gòu),導通電阻較傳統(tǒng)硅器件降低80%,而80V技術(shù)通過優(yōu)化場板設(shè)計,將開關(guān)頻率提升至1MHz以上,滿足SiC器件難以覆蓋的中壓高頻需求。

戰(zhàn)略意圖:臺積電技術(shù)變現(xiàn)與格羅方德產(chǎn)能卡位

對臺積電而言,此次授權(quán)是其退出GaN代工前的關(guān)鍵技術(shù)變現(xiàn)舉措。受中國廠商價格競爭擠壓,臺積電GaN業(yè)務毛利率已從2022年的35%跌至2024年的18%,導致其于2027年全面終止GaN代工。通過授權(quán)而非直接生產(chǎn),臺積電可規(guī)避產(chǎn)能閑置風險,同時持續(xù)收取專利使用費——據(jù)行業(yè)估算,該協(xié)議或為臺積電帶來每年超2億美元的持續(xù)性收入。

格羅方德則將此視為填補技術(shù)空白的戰(zhàn)略機遇。盡管其早在2020年便啟動GaN研發(fā),但受限于IBM遺產(chǎn)技術(shù)路徑,其早期產(chǎn)品僅能支持48V以下應用。引進臺積電技術(shù)后,格羅方德將直接獲得覆蓋全電壓等級的解決方案,加速其“可信GaN工藝鏈”建設(shè)。美國聯(lián)邦政府對此合作表示支持,稱其符合《芯片與科學法案》中“重建本土功率半導體生態(tài)”的目標,或進一步追加資金用于技術(shù)聯(lián)合研發(fā)。

產(chǎn)業(yè)影響:重構(gòu)全球GaN代工版圖

此次合作將深刻改變第三代半導體競爭格局。隨著臺積電退出代工市場,全球650V以上GaN晶圓產(chǎn)能將出現(xiàn)缺口,而格羅方德憑借此次授權(quán),有望在2026年前占據(jù)北美市場60%以上的份額。其佛蒙特工廠規(guī)劃產(chǎn)能達每月2萬片,相當于當前全球GaN晶圓總需求的15%。

行業(yè)分析師指出,此次合作本質(zhì)是“技術(shù)換市場”的典型案例。臺積電通過授權(quán)維持技術(shù)話語權(quán),格羅方德則以產(chǎn)能承諾換取入場券,而美國政府則借此推動功率半導體自主可控。隨著2026年第一片授權(quán)產(chǎn)出的GaN晶圓下線,全球半導體產(chǎn)業(yè)或?qū)⑦M入“硅基退場、化合物登場”的新周期。
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